1、鍍液中鉻酐的濃度過低。鍍液中鉻酐濃度過低時(shí)會導(dǎo)致鍍層的覆蓋才能差，還會呈現(xiàn)漏鎳等缺點(diǎn)。因此在出產(chǎn)過程中應(yīng)分析調(diào)整好鍍液中鉻酐的濃度，以及鉻酐和硫酸的比值。2、代鉻光亮劑批發(fā)中硫酸根含量過高或過低。鍍液中的硫酸根含量應(yīng)守時(shí)分析調(diào)整，當(dāng)硫酸根含量高時(shí)可適當(dāng)增加鉻酐的濃度或用碳酸鋇去除。3、鍍液中三價(jià)鉻含量過高。供應(yīng)代鉻光亮劑中三價(jià)鉻含量過高，不只會影響鍍層的覆蓋才能，還會呈現(xiàn)霧狀和藍(lán)膜的現(xiàn)象，因此鍍液中三價(jià)鉻的含量應(yīng)控制在2~5g/L。

當(dāng)供應(yīng)代鉻光亮劑中Pb2+、Zn2+、Cu2+、NO3- 等離子雜質(zhì)的含量超越了允許范圍，鍍鎳層不但會呈現(xiàn)脆裂，還會呈現(xiàn)灰黑色或黑色條紋。當(dāng)Pb2+含量超越7mg/L時(shí)，工件凹處及捆扎工件的鉛線處不但無鍍層，還會呈灰黑色。Zn2+含量超越0.02g/L時(shí)，鍍層會發(fā)脆，還會呈現(xiàn)黑色條紋。代鉻光亮劑批發(fā)Cu2+含量超越0.03g/L時(shí)低電流密度區(qū)會呈現(xiàn)暗黑色的粗糙鍍層。NO3-含量在0.2g/L時(shí)，陰極電流效率會明顯下降，鍍層呈黑色。Zn2+、Cu2+雜質(zhì)可用電解法去除，即用電解板做陰極，在拌和的情況下，以0.1~0.5A/dm2的小電流進(jìn)行電解處理。也可使用比格萊科技的Ni-391除雜水去除。

使用供應(yīng)代鉻光亮劑的過程中，有時(shí)候鍍液重復(fù)過濾仍有污濁的現(xiàn)象，且工件上會出磨砂狀鍍層，這是什么原因引起的？1、鍍層呈磨砂狀鍍層，凸起一般可用手感覺到，這是代鉻光亮劑批發(fā)中漂浮有細(xì)小顆粒物質(zhì)所致的。這些小顆粒有可能是過量的硼酸，也可能是空氣中漂浮的灰塵，或陽極泥。這些可通過過濾去除。2、鍍層呈磨砂狀鍍層，凹下的用手感覺不到，就是咱們一般說的麻坑。這可能是鍍液中鐵雜質(zhì)、有機(jī)雜質(zhì)含量太高或濕潤劑缺乏所致的。可通過補(bǔ)加濕潤劑或鍍液進(jìn)行除雜處理。

代鉻光亮劑批發(fā)在生產(chǎn)過程中應(yīng)防止跟鈍化液及水洗的交叉污染；鍍鉻槽應(yīng)密閉及裝抽風(fēng)機(jī)，防止鉻霧污染其他鍍液。當(dāng)鎳鍍液被六價(jià)鉻污染，可采取自愿的辦法進(jìn)行處理：鍍液在拌和下加入0.02~0.05g/L的保險(xiǎn)粉（連二亞硫酸鈉），加溫到60~65℃，連續(xù)拌和1小時(shí)，使六價(jià)鉻還原成三價(jià)鉻，然后運(yùn)用稀氫氧化鈉溶液調(diào)整pH值到5.2~5.7，使其構(gòu)成氫氧化鉻沉淀而過濾鍍液，過濾后在鎳鍍液中加入適量的雙氧水，以除去剩余的保險(xiǎn)粉，再運(yùn)用稀硫酸調(diào)整鍍液的pH值到工藝范圍內(nèi)及可生產(chǎn)。