電鍍出產(chǎn)中應(yīng)當(dāng)盡也許削減做大處理的次數(shù)，由于這么容易使鎳鹽損耗和光亮劑的組分失調(diào)。但是在電鍍過(guò)程中，光亮劑的分化以及雜質(zhì)的帶入幾乎是不可避免的，除要盡也許地堅(jiān)持溶液純潔，有必要對(duì)鍍液進(jìn)行守時(shí)的、系統(tǒng)的處理，不要比及故障出現(xiàn)，致使影響出產(chǎn)才進(jìn)行雜質(zhì)的去掉處理。此刻在鍍鎳槽中，對(duì)雜質(zhì)進(jìn)行處理也是確保鍍層質(zhì)量的主要手法。在某些特定的條件下，有必要進(jìn)行處理時(shí)，就需要依照必定的技術(shù)規(guī)程，系統(tǒng)的進(jìn)行。

　　一般精準(zhǔn)的處理辦法是：

　　(1)用硫酸(5-10%)調(diào)整鍍液pH值為3.0-3.5之間(有利于氧化反應(yīng)的進(jìn)行);

　　(2)增加30%雙氧水1-2ml/L，將鐵離子由2價(jià)氧化至3價(jià);

　　(3)將鍍液加溫至60℃，攪拌1小時(shí)并保溫充沛氧化有機(jī)雜質(zhì)，同時(shí)除去過(guò)剩的雙氧水;

　　(4)用5-10%氫氧化鈉水溶液調(diào)整鍍液的pH值至6.0-6.2之間，充沛攪拌使三價(jià)鐵離子構(gòu)成氫氧化鐵沉積;

　　(5)加活性炭(化學(xué)純)1～3 g/L，并攪拌l～2h，充沛吸附有機(jī)雜質(zhì);

　　(6)靜置24h后過(guò)濾回電鍍槽;

　　(7)用瓦楞形陰極以0.25 A/dm2的電流處理至獲得正常鍍層(除銅、鋅雜質(zhì));

　　(8)用5-10%硫酸調(diào)整鍍液pH值至正常技術(shù)規(guī)劃;

　　(9)按技術(shù)增加鍍鎳光亮劑直至能夠正常出產(chǎn)。

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